產(chǎn)品型號

小型粉末 PVD 包覆系統(tǒng) VTC-16PW

產(chǎn)品特點

1、可對粉體材料進行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾， 達到粉體表面均勻包覆

2、設備小巧可在手套箱內(nèi)使用，可處理樣敏感性材料

技術參數(shù)

1、輸入電壓：  220 VAC 50/60Hz

2、電源輸出:1600 VDC 250 W

3、電流：  150 mA .

4、濺射頭：  2 英寸角度可調(diào)節(jié)濺射頭

5、振動樣品臺：

樣品臺振動頻率可調(diào)節(jié)：  6-33Hz

樣品臺直徑為 50mm

建議樣品量: < 500 mg

建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um

石英腔體尺寸：  165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

6、真空度：

①1.0E-2 Torr （采用機械泵），  可濺射 Au, Ag, Pt, Cu, Mo 等靶

②  1.0E-5 Torr  （采用分子泵） ， 可濺射 Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn 等易氧化金屬靶真空 度可達到< 4.0E-6 Torr（分子泵系統(tǒng)抽時間 12 小時，腔體進行烘烤）

7、  CE 認證

產(chǎn)品規(guī)格

注意事項

警告：

1、濺射頭與高壓電源相連接，操作時必須佩帶防護手套                                             2、濺射前必須確保靶材，濺射頭，基片和樣品臺清潔，需要用砂紙和乙醇來清洗，  Al 或是 Ni 靶每次使用時都必須清洗和處理

注意：粉末樣品必須干燥和分散