產(chǎn)品型號

鈣鈦礦鍍膜機

主要特點

1、樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。

  2、設(shè)有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品， 烘烤加熱溫度為 180℃。

  3、設(shè)有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。

技術(shù)參數(shù)

1、鍍膜室：不銹鋼材料，采用方形前后開門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板， 腔室尺寸約為 600mm×450mm×450mm

2、真空排氣系統(tǒng)：采用分子泵+機械泵系統(tǒng)

3、真空度：鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa

4、系統(tǒng)漏率：≤ 1×10-7Pa

5、蒸發(fā)源：安裝在真空室的下底上； 有機蒸發(fā)源 4 個、 容積 5ml ，2 臺蒸發(fā)電源，可測溫、控溫， 加熱溫度 400℃， 功率 0.5KW；無機蒸發(fā)源 4 套、 容積 5ml ，2 臺蒸發(fā)電源， 加熱電流 300A ，功率 3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟

  6、樣品架：安裝在真空室的上蓋上， 可放置 Ø120mm 的樣品、載玻片， 旋轉(zhuǎn)速度 0-30rpm

  7、加熱溫度： RT-180℃，測溫、控溫

  8、膜厚控制儀：石英晶振膜厚控制儀， 膜厚測量范圍 0-999999Å